TiNb Sputtering Mål Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget
Titanium Niob
Tantal Niob Sputtering Target Beskrivelse
Titanium Niob sputtermål er fremstilt ved hjelp av vakuumsmelting eller kraftmetallurgi.Det typiske titaninnholdet er 66 % (omtrent 50 vekt %).Det er et ekstraordinært superledningsmateriale og kan gjøres til en rekke sammensatte praktiske materialer ved konvensjonell deformasjons- og varmebehandlingsprosess.
Titanium Niobium Sputtering Target Emballasje
Vårt Titanium Niobium sputtermål er tydelig merket og merket eksternt for å sikre effektiv identifikasjon og kvalitetskontroll.Det utvises stor forsiktighet for å unngå skader som kan oppstå under lagring eller transport.
Ta kontakt
RSMs titan niob sputtering mål er av ultrahøy renhet og ensartet.De er tilgjengelige i forskjellige former, renheter, størrelser og priser.
Vi kan levere en rekke geometriske former: rør, buekatoder, plane eller spesiallagde.Våre produkter har utmerkede mekaniske egenskaper, homogen mikrostruktur, polert overflate uten segregering, porer eller sprekker.
Vi spesialiserer oss på å produsere tynnfilmbeleggmaterialer med høy renhet med utmerket ytelse samt høyest mulig tetthet og minste mulige gjennomsnittlige kornstørrelser for bruk i formbelegg、dekorasjon、bildeler、low-E glass、halvleder integrert krets、tynnfilm motstand、grafisk skjerm、aerospace、 magnetisk opptak、berøringsskjerm、tynt film solcellebatteri og andre fysiske dampavsetningsapplikasjoner (PVD).Vennligst send oss en forespørsel for gjeldende priser på sputtermål og andre avsetningsmaterialer som ikke er oppført.
