Engros TiAlSi Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Spesiallaget produsent og leverandør |Rik

Titanium aluminium silisium

TiAlSi Sputtering Mål Høy renhet Tynnfilm Pvd-belegg Spesiallaget utvalgt bilde

Kort beskrivelse:

Kategori	Alloy sputtering mål
Kjemisk formel	TiAlSi
Komposisjon	Titanium aluminium silisium
Renhet	99,5 %, 99,9 %, 99,95 %
Form	Plater, kolonnemål, buekatoder, spesiallaget
Produksjonsprosess	PM
Tilgjengelig størrelse	L≤2000 mm, B≤200 mm

Send e-post til oss

Produkt detalj

Produktetiketter

Titanium Aluminium Silisium Sputtering Target Beskrivelse

Titanium Aluminium Silisiumforstøvningsmål er fremstilt ved hjelp av kraftmetallurgi.
Titanium Aluminium Silisiumlegering i konvensjonelt brukt i produksjon av bilmotorer.Den har utmerket egnethet ved høye temperaturer og slitestyrke.Bruken av Ti-Al-Si-legering kan forlenge motorkomponentenes levetid betydelig med omtrent 35 %.Når det gjelder bruken i motorsykkel- og bilhjul, viser den bedre støpeevne, bearbeidbarhet, tretthetsmotstand og slagfasthet enn A356 Aluminium.

En raskt størknet aluminiumslegering kan oppnås ved en rask størkningsprosess kalt "smeltespinning", som genererer overlegne egenskaper sammenlignet med konvensjonell aluminiumslegering, sammen med finkornet mikrostruktur og mer fleksibilitet i legeringen.Det er et potensielt materiale i flyindustrien for å erstatte titanbasert legering brukt i 150-300 ℃.

Under avsetningsprosessen av TiAlSi-mål kan TiAlSi/TiAlSiN dannes individuelt som et flerlag av krystallinske lag av høy kvalitet med for det meste kubiske strukturer.Disse flerlagsbeleggene har laget disse materialene for harde belegg for å øke levetiden til instrumenter som brukes i tøffe miljøer.

Titanium Aluminium Silisium Sputtering Target Emballasje

Vårt Titanium Aluminium Silisium sputtermål er tydelig merket og merket eksternt for å sikre effektiv identifikasjon og kvalitetskontroll.Det utvises stor forsiktighet for å unngå skader som kan oppstå under lagring eller transport.

Ta kontakt

RSMs titan-aluminium-silisium-sputteringsmål er av ultrahøy renhet og ensartet.De er tilgjengelige i forskjellige former, renheter, størrelser og priser.Vi spesialiserer oss på å produsere tynnfilmbeleggmaterialer med høy renhet med utmerket ytelse samt høyest mulig tetthet og minste mulige gjennomsnittlige kornstørrelser for bruk i formbelegg、dekorasjon、bildeler、low-E glass、halvleder integrert krets、tynnfilm motstand、grafisk skjerm、aerospace、 magnetisk opptak、berøringsskjerm、tynt film solcellebatteri og andre fysiske dampavsetningsapplikasjoner (PVD).Vennligst send oss en forespørsel for gjeldende priser på sputtermål og andre avsetningsmaterialer som ikke er oppført.

Tidligere: TiAlV Sputtering Target Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget

Neste: TiAl Sputtering Target Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget