TiAl Sputtering Target Høy renhet tynnfilm Pvd-belegg spesiallaget
Titanium aluminium
Video
Titanium Aluminium Sputtering Target Beskrivelse
Kravet til målkvaliteten for sputterbelegg er høyere enn for den tradisjonelle materialindustrien.Den ensartede mikrostrukturen til målet påvirker sprutytelsen direkte.Vi har et komplett kvalitetsstyringssystem og vi velger råvarer med høy renhet og blander dem grundig for å sikre homogenitet.Titanium Aluminiumslegering sputtering mål er produsert ved hjelp av vakuum varmpressing metode.
Våre titan-aluminium-sprutmål kan gi et enestående oksidasjonsbestandig nitridbelegg, titan-aluminiumnitrid (TiAlN).TiAlN er dagens mainstream som film for skjæreverktøy, glidedeler og tribo-belegg.Den har høy hardhet, seighet, slitesterk ytelse og oksidasjonstemperatur.
Våre typiske TiAl-mål og deres egenskaper
| Ti-75Al at % | Ti-70Al at % | Ti-67Al at % | Ti-60Al at % | Ti-50Al at % | Ti-30Al at % | Ti-20Al at % | Ti-14Al at % | |
| Renhet (%) | 99,7 | 99,7 | 99,7 | 99,7 | 99,8/99,9 | 99,9 | 99,9 | 99,9 |
| Tetthet(g/cm3） | 3.1 | 3.2 | 3.3 | 3.4 | 3,63/3,85 | 3,97 | 4,25 | 4.3 |
| Gregn Størrelse(µm) | 100 | 100 | 100 | 100 | 100/- | - | - | - |
| Prosess | HOFTE | HOFTE | HOFTE | HOFTE | HOFTE/VAR | VAR | VAR | VAR |
Titanium Aluminium Sputtering Target Emballasje
Vårt sputtermål i titan aluminium er tydelig merket og merket eksternt for å sikre effektiv identifikasjon og kvalitetskontroll.Det utvises stor forsiktighet for å unngå skader som kan oppstå under lagring eller transport.
Ta kontakt
RSMs titan-aluminium-sprutmål er av ultrahøy renhet og ensartet.De er tilgjengelige i forskjellige former, renheter, størrelser og priser.
Vi kan levere en rekke geometriske former: rør, buekatoder, plane eller skreddersydde, og et bredt utvalg av aluminium.Våre produkter har utmerkede mekaniske egenskaper, homogen mikrostruktur, polert overflate uten segregering, porer eller sprekker.
Vi spesialiserer oss på å produsere tynnfilmbeleggmaterialer med høy renhet med utmerket ytelse samt høyest mulig tetthet og minste mulige gjennomsnittlige kornstørrelser for bruk i formbelegg、dekorasjon、bildeler、low-E glass、halvleder integrert krets、tynnfilm motstand、grafisk skjerm、aerospace、 magnetisk opptak、berøringsskjerm、tynt film solcellebatteri og andre fysiske dampavsetningsapplikasjoner (PVD).Vennligst send oss en forespørsel for gjeldende priser på sputtermål og andre avsetningsmaterialer som ikke er oppført.
