NiTa Sputtering Target High Purity Thin Film Pvd Coating Custom Made

Nikkel Tantal Sputtering Targets er produsert ved hjelp av vakuumsmelting eller pulvermetallurgisk prosess.Den har høy renhet og homogen mikrostruktur.

Nikkel Tantal Sputtering Targets er mye brukt i romfart, fly, navigasjonsindustri.Dens gode motstand mot overflatereaktivitet ved høye temperaturer stammer fra den betydelige mengden tantal som finnes i legeringen, som har en høy smeltetemperatur på 3000°C.Aluminium, Yttrium og Chronium tilsettes vanligvis for å forbedre egenskapene.

Rich Special Materials spesialiserer seg på produksjon av sputtering Target og kan produsere nikkeltantal sputtering materialer i henhold til kundenes spesifikasjoner.For mer informasjon, vennligst kontakt oss.