Vakuumplettering i valg av sputtering-målmaterialer har vært et problem for folk for tiden, da sputtering-belegget, spesielt utviklingen av magnetron-sputtering-beleggferdighetene, kan sies for all informasjon for å kunne målrette materialpreparering av tynne filmer ved ionebombardement, fordi ved å sputtere målmateriale i prosessen med belegget til typen substrat, har en viktig effekt på kvaliteten på sputterfilmen. Derfor er målmaterialets krav strengere.Her vil vi lære om sputtermålets rolle i vakuumbelegg sammen med redaktøren av Beijing Relaxation
一、Utvalgsprinsipp og klassifisering av målmateriale
Ved valg av målmateriale, i tillegg til bruken av selve filmen, bør følgende problemer også vurderes:
Problem 1. I henhold til bruks- og ytelseskravene til membranen, er det nødvendig at målmaterialet oppfyller de tekniske kravene til renhet, magasininnhold, komponentens enhetlighet, maskineringsnøyaktighet og så videre.
Oppgave 2. Målmaterialet skal ha god mekanisk styrke og kjemisk stabilitet etter filmdannelse;
Oppgave 3. Det er nødvendig for filmmaterialet å generere sammensatt film lett med reaksjonsgassen som den reaktive sputterfilmen;
Oppgave 4. Det er nødvendig å sette målet og matrisen til å være sterk, ellers bør filmmaterialet med god adhesjon til matrisen tas i bruk, først sputter et lag med bunnfilm og klargjør deretter det nødvendige filmlaget;
Spørsmål 5. Ut fra forutsetningen om å oppfylle ytelseskravene til filmen, jo mindre forskjellen er mellom den termiske ekspansjonskoeffisienten til målet og matrisen, jo bedre, for å redusere påvirkningen av den termiske spenningen til sputterfilmen;
Utarbeidelse av flere vanlig brukte mål
(1) cr mål
Krom som sputtering filmmateriale er ikke bare lett å kombinere med basismaterialet har høy vedheft, og krom og oksid CrQ3 film, dens mekaniske egenskaper, syrebestandighet og termisk stabilitet er bedre.
Beijing Ruichi High-tech Co., Ltd. hovedsakelig engasjert i: titanmål zirkonium mål, aluminium mål, nikkel mål, krom mål, wolfram mål, molybden mål, kobber mål, silisium mål, niob mål, tantal mål, titan-silisium legeringer mål, titan-nioblegeringsmål, titan-wolframlegeringsmål, titan-zirkoniumlegeringsmål, nikkel-kromlegeringsmål, silika-aluminiumlegeringsmål, nikkel-vanadiumlegeringsmål, krom-aluminium-silisium ternær legeringsmål，Ti al si ternært legeringsmålmateriale, mye brukt i dekorasjon/hard overflate og funksjonelt belegg, arkitektonisk glass, flatskjerm/optisk fotoelektrisk, optisk lagring, elektronikk, utskrift og andre yrker.
Innleggstid: Jun-02-2022