Metallforstøvningsmålmateriale, beleggslegeringsforstøvningsbeleggmateriale, keramisk forstøvningsbeleggmateriale, boridkeramiske forstøvningsmålmaterialer, karbidkeramisk forstøvningsmålmateriale, fluoridkeramisk sputtermålmateriale, Nitridkeramiske sputtermålmaterialer, oksidkeramisk mål, Selenidkeramisk sputtermålmateriale, Silicid keramisk sputtering målmaterialer, sulfid keramisk sputtering target materiale, Telluride keramisk sputtering target, andre keramiske mål, krom-dopet silisiumoksid keramisk mål (CR-SiO), indium Phosphide target (InP), bly Arsenide target (PbAs), Indium Arsenide mål (InAs).
Sputtermålmaterialer med høy renhet og høy tetthet er:
Sputtering av målmateriale (renhet: 99,9 %-99,999 %)
1. Metallmål:
Nikkelmål, Ni, titanmål, Ti, sinkmål, Zn, krommål, Cr, magnesiummål, Mg, niobmål, Nb, tinnmål, Sn, aluminiummål, Al, indiummål, In, jernmål, Fe, Zirkonium-aluminiummål, ZrAl, Titanium-aluminiummål, TiAl, Zirkoniummål, Zr, aluminium-silisiummål, AlSi, silisiummål, Si, kobbermål Cu, tantalmål T, A, Germaniummål, Ge, sølvmål, Ag, kobolt mål, Co, gullmål, Au, gadoliniummål, Gd, lantanmål, La, yttriummål, Y, ceriummål, Ce, wolframmål, W, mål i rustfritt stål, nikkel-krommål, NiCr, hafniummål, Hf, molybdenmål, Mo, Fe-Ni mål, FeNi, wolframmål, W, etc.
2. Keramisk målmateriale
ITO-målmål, jernoksid, magnesiumoksidmål, mål, mål, silisiumkarbid silisiumnitrid titannitridmålmålmål, mål, sinksulfid, sinkoksid, kromoksid, silisiumdioksid, mål, mål på et silisiumoksid-, ceriumoksidmål, mål, fem zirkoniumdioksyd oksygen HuaEr niobmålmål, mål, titandioksyd, zirkoniumdioksid, hafniummål, mål, titandiboriddiborid zirkoniummål, wolframtrioksidmål, aluminiumtrioksidmål tantalpentaoksid, niobpentaoksidmål, yttriumfluoridmål, yttriumfluoridmål mål, sinkselenidmål, aluminiumnitridmål, silisiumnitridmål, bornitridmål, titannitridmål, silisiumkarbidmål, litiumniobatmål, praseodymtitanatmål, bariumtitanatmål, lantantitanatmål, nikkeloksidmål, sputtermål osv. .
Innleggstid: Aug-05-2022