Sputtering titanium legering mål og titan metall er sammensatt av titan, så informasjonen er omtrent den samme, men forskjellen mellom de to ligger hovedsakelig i sputtering titan legering target er laget av titan metall på flere måter, og titan forekommer i naturen som en titanium ore.Titanium legering mål kan være mye brukt i mange yrkeskategorier, nå Beijing richmat forfatter oppsummerte flere vanlige titanlegering mål når det gjelder bruken av situasjonen for å gi oss en detaljert introduksjon.
?
一、Ti-mål for integrerte kretser
Kravene til sputtering av titanlegeringsmål er forskjellige mellom ikke-integrerte kretser og integrerte kretser.Generelt har integrerte kretser høyere krav til beleggdata, som høyere renhet, mindre kornstørrelse og mer nøyaktig skaleringsnøyaktighet. Renheten til titanmål i integrerte kretser er større enn 99,995 %, som er høyere enn den som brukes i ikke-integrerte kretser. kretser, noe som indikerer at ulike bruksområder for titanmålkrav er svært forskjellige.
二、Ti-mål for flatskjerm
Titanlegeringsmål som brukes i flatskjermer inkluderer flytende krystallskjerm, plasmaskjerm, elektroluminescensskjerm og feltemisjonsskjerm. Den tynne filmen på flatskjerm er sputtered forming-metoden, Al, Cu, Ti og Mo er de primære metallforstøvningsmålene for flatpaneler. skjermer.Renheten til titanlegeringsmål for flatskjermer er vanligvis større enn 99,9 %.
三、Ti mål for dekorative materialer
Høy renhet titanlegering målmateriale har utmerket luftkorrosjonsbestandighet, langvarig bruk i luften endrer ikke farge, for å sikre at den opprinnelige fargen på titan og menneskelig kontakt ikke er allergisk og andre utmerkede egenskaper.Derfor kan titan med høy renhet også brukes som dekorative materialer, de siste årene, som armbånd, klokker og briller og andre ornamenter med titanrenhet har nådd 5N-nivå.
四、Ti-mål for ultrahøyvakuumpumpesystemer
Som et kjemisk aktivt metall kan titan reagere med mange grunnstoffer og forbindelser ved høy temperatur.Titanlegeringsmålet med høy renhet har en sterk adsorpsjonskapasitet for aktive gasser (som O2, N2, CO, CO2, vanndamp over 650 °C), og Ti-filmen som fordamper på pumpeveggen kan danne en overflate med høy adsorpsjonsytelse .Denne egenskapen gjør Ti mye brukt som en getter i ultrahøyvakuumgassekstraksjonssystem. Hvis den brukes til å forbedre pumpen, sputterionpumpen, etc., kan den gjøre det ultimate driftstrykket til sputterionpumpen så lavt som 10-9PA
Innleggstid: 25. april 2022