Med økningen i markedsetterspørselen oppdateres stadig flere typer sputteringsmål kontinuerlig.Noen er kjente og noen er ukjente for kundene.Nå vil vi gjerne dele med deg hva slags typer magnetronforstøvningsmål er.
Sputtering-mål har følgende typer: metallforstøvningsbeleggmål, legeringsforstøvningsbeleggmål, keramisk sputtering-beleggmål, borid-keramisk sputtermål, karbidkeramisk sputtermål, fluoridkeramisk sputtermål, nitridkeramisk sputtermål, oksidkeramisk mål, selenidkeramisk sputtermål , silicid keramisk sputtermål, sulfid keramisk sputtermål, tellurid keramisk sputtermål, andre keramiske mål, kromdopet silisiumoksyd keramisk mål (CR SiO), indiumfosfidmål (INP), blyarsenidmål (pbas), indiumarsenidmål (InAs) ).
Magnetronsputtering er generelt delt inn i to typer: DC-sputtering og RF-sputtering.Prinsippet for DC-forstøvningsutstyr er enkelt, og hastigheten er også høy ved sputtering av metall.RF-sputtering er mye brukt.I tillegg til sputtering av ledende data, kan den også sputtere ikke-ledende data.Samtidig utfører sputtermålet også reaktiv sputtering for å utarbeide sammensatte data som oksider, nitrider og karbider.Hvis RF-frekvensen øker, vil det bli mikrobølgeplasmasputtering.For tiden brukes elektronsyklotronresonans (ECR) mikrobølgeplasmasputtering ofte.
Innleggstid: 18. mai 2022