Sputtering target – nikkel krom target

Target er det viktigste grunnleggende materialet for fremstilling av tynne filmer.For tiden inkluderer de mest brukte målpreparerings- og prosessmetodene hovedsakelig pulvermetallurgiteknologi og tradisjonell legeringssmelteteknologi, mens vi tar i bruk den mer tekniske og relativt nye vakuumsmelteteknologien.

Forberedelsen av nikkel-krom-målmateriale er å velge nikkel og krom av forskjellig renhet som råmateriale i henhold til kundenes forskjellige renhetskrav, og bruke vakuuminduksjonssmelteovn for smelting.Smelteprosessen inkluderer generelt vakuumekstraksjon i smeltekammeret – argongassvaskeovn – vakuumekstraksjon – inertgassbeskyttelse – smeltelegering – raffinering – støping – avkjøling og avforming.

Vi vil teste sammensetningen av de støpte blokkene, og blokkene som oppfyller kravene vil bli behandlet i neste trinn.Deretter blir nikkel-krom-blokken smidd og valset for å oppnå en mer jevn valset plate, og deretter maskineres den valsede platen i henhold til kundens krav for å oppnå nikkel-krom-målet som oppfyller kundens krav.