Silisiumsprutmål

Noen kunder spurte om silisiumsprutmål.Nå vil kolleger fra RSM Technology Department analysere silisiumsputteringsmål for deg.

Silisiumforstøvningsmål lages ved å sputtere metall fra silisiumbarre.Målet kan produseres ved forskjellige prosesser og metoder, inkludert elektroplettering, sputtering og dampavsetning.Foretrukne utførelsesformer tilveiebringer videre ytterligere rense- og etseprosesser for å oppnå ønskede overflateforhold.Det produserte målet er svært reflekterende, med en grovhet på mindre enn 500 ångstrøm og relativt høy brennhastighet.Filmen fremstilt av silisiummålet har et lavt partikkeltall.

Silisiumsputteringsmål brukes til å avsette tynne filmer på silisiumbaserte materialer.De brukes ofte i skjerm-, halvleder-, optisk, optisk kommunikasjon og glassbelegg.De er også egnet for etsing av høyteknologiske komponenter.N-type silisiumforstøvningsmål kan brukes til forskjellige formål.Den kan brukes på mange felt, inkludert elektronikk, solceller, halvledere og skjermer.

Silisiumforstøvningsmålet er et sputteringstilbehør som brukes til å avsette materialer på overflaten.Vanligvis består den av silisiumatomer.Sputteringsprosessen krever nøyaktig mengde materiale, noe som kan være en stor utfordring.Å bruke ideelt sputterutstyr er den eneste måten å lage silisiumbaserte komponenter.Det er verdt å merke seg at silisiumforstøvningsmålet ikke brukes i sputterprosessen.