Den brede bruken av målmateriale i ulike yrker gjør etterspørselen etter målmateriale høyere og høyere.Følgende Vi vil kort introdusere du hva er de primære funksjonelle kravene til målet, hoping å hjelpe deg.
Renhet: Renhet er en av de primære funksjonelle indikatorene for målet, fordi renheten til målet har stor innvirkning på filmens funksjon.Men i praksis er ikke renheten til målmaterialet den samme.For eksempel, med den raske veksten av mikroelektronikkfaget, har størrelsen på silisiumskiven utviklet seg fra 6", 8" til 12", og ledningsbredden har sunket fra 0,5um til 0,25um,0,18um og til og med 0,13um.Når 99,995% av målrenheten kan oppfylle de teknologiske kravene til 0,35UMIC.Forberedelsen av 0,18 um linje krever 99,999 % eller til og med 99,9999 % renhet av målmaterialet.
Tetthet: For å redusere porøsiteten i målfaststoffet og forbedre funksjonen til sputterfilmen, kreves det vanligvis at målet har høy tetthet.Måltettheten påvirker ikke bare sputterhastigheten, men også de elektriske og optiske egenskapene til filmene.Jo høyere måltetthet, desto bedre funksjon har filmen. I tillegg ble tettheten og styrken til målmaterialet økt for å gjøre det bedre i stand til å motstå den termiske spenningen under sputtering.Tetthet er også en av de viktige funksjonelle indikatorene for målstoffer.
Urenhetsinnhold: urenheter i målfaststoffet og oksygen og vanndamp i porene er de primære forurensningskildene til de akkumulerte filmene. Ulike målmaterialer for forskjellige formål har forskjellige krav til forskjellig urenhetsinnhold.For eksempel har mål av rene aluminium og aluminiumslegeringer som brukes i halvlederindustrien spesielle krav til innhold av alkalimetall og innhold av radioaktive grunnstoffer.
Innleggstid: Jun-06-2022