Prinsippet for vakuumbelegg

Vakuumbelegg refererer til oppvarming og fordampning av fordampningskilden i vakuum eller sputtering med akselerert ionebombardement, og avsetning av den på overflaten av substratet for å danne en enkeltlags- eller flerlagsfilm.Hva er prinsippet for vakuumbelegg?Deretter vil redaktøren av RSM introdusere det for oss.

　　1. Vakuumfordampningsbelegg

Fordampningsbelegg krever at avstanden mellom dampmolekylene eller atomene fra fordampningskilden og substratet som skal belegges, bør være mindre enn den gjennomsnittlige frie banen til gjenværende gassmolekyler i belegningsrommet, for å sikre at dampmolekylene til fordampning kan nå overflaten av underlaget uten kollisjon.Sørg for at filmen er ren og fast, og fordampningen vil ikke oksidere.

　　2. Vakuum sputtering belegg

I vakuum, når de akselererte ionene kolliderer med det faste stoffet, på den ene siden blir krystallen skadet, på den andre siden kolliderer de med atomene som utgjør krystallen, og til slutt atomene eller molekylene på overflaten av det faste stoffet. sprute utover.Det sputterede materialet er belagt på underlaget for å danne en tynn film, som kalles vakuumforstøvningsplating.Det er mange sputteringsmetoder, blant disse er diodesputtering den tidligste.I henhold til forskjellige katodemål kan den deles inn i likestrøm (DC) og høyfrekvens (RF).Antallet atomer som sputteres ved å påvirke måloverflaten med et ion kalles sputteringshastighet.Med høy sputterhastighet er filmdannelseshastigheten høy.Sputteringshastigheten er relatert til energien og typen ioner og typen målmateriale.Generelt sett øker sputteringshastigheten med økningen av menneskelig ioneenergi, og sputteringshastigheten til edle metaller er høyere.