Vi må være godt kjent med målet nå, nå øker også målmarkedet, følgende er hva som er hovedytelsen til sputteringsmålet som deles av redaktør fra RSM
Renheten
Renheten til målmaterialet er en av de viktigste ytelsesindeksene, fordi renheten til målmaterialet har stor innflytelse på ytelsen til tynn film.I praktisk anvendelse er imidlertid ikke renhetskravene til målmaterialer de samme.For eksempel, med den raske utviklingen av mikroelektronikkindustrien, har silisiumbrikkestørrelsen blitt utviklet fra 6", 8" til 12", og ledningsbredden er redusert fra 0,5um til 0,25um,0,18um eller til og med 0,13um.Tidligere kan renheten til 99,995% målmateriale oppfylle prosesskravene på 0,35umIC.Renheten til målmaterialet er 99,999% eller til og med 99,9999% for fremstilling av 0,18um linjer.
Urenhetsinnhold
Urenhetene i målfaststoffet og oksygenet og vanndampen i porene er de viktigste forurensningskildene til filmavsetning.Målmaterialer for ulike formål har ulike krav til ulikt urenhetsinnhold.For eksempel har mål av rene aluminium og aluminiumslegeringer som brukes i halvlederindustrien spesielle krav til innholdet av alkalimetaller og radioaktive grunnstoffer.
Tettheten
For å redusere porøsiteten i målfaststoffet og forbedre ytelsen til sputterfilmen, kreves vanligvis høy tetthet av målet.Tettheten til målet påvirker ikke bare sputterhastigheten, men også de elektriske og optiske egenskapene til filmen.Jo høyere måltetthet, jo bedre filmytelse.I tillegg øker tettheten og styrken til målet at målet bedre tåler den termiske spenningen i sputterprosessen.Tetthet er også en av de viktigste ytelsesindeksene for målet.
Kornstørrelse og kornstørrelsesfordeling
Målet er vanligvis polykrystallinsk med kornstørrelser fra mikrometer til millimeter.For det samme målet er sputteringshastigheten til målet med små korn raskere enn målet med store korn.Tykkelsesfordelingen av filmene som er avsatt ved sputteringsmål med mindre kornstørrelsesforskjell (jevn fordeling) er mer jevn.
Innleggstid: Aug-04-2022