Introduksjon til funksjon og bruk av mål

Om målproduktet, nå er applikasjonsmarkedet mer og mer bredt, men det er fortsatt noen brukere som ikke forstår bruken av målet, la eksperter fra RSM-teknologiavdelingen gjøre en detaljert introduksjon om det,

　　1. Mikroelektronikk

I alle applikasjonsindustrier har halvlederindustrien de mest krevende kravene til målforstøvningsfilmkvalitet.Silisiumskiver på 12 tommer (300 epistaxis) er nå produsert.Bredden på sammenkoblingen minker.Silisiumwaferprodusenter krever stor størrelse, høy renhet, lav segregering og finkornet mål, noe som krever bedre mikrostruktur av det produserte målet.

　　2, display

Flatpanelskjerm (FPD) har i stor grad påvirket det katodestrålerør (CRT)-baserte dataskjerm- og TV-markedet gjennom årene, og vil også drive teknologien og markedets etterspørsel etter ITO-målmaterialer.Det er to typer iTO-mål.Den ene er å bruke nanometertilstand for indiumoksid og tinnoksidpulver etter sintring, den andre er å bruke indiumtinnlegeringsmål.

　　3. Oppbevaring

Når det gjelder lagringsteknologi, krever utviklingen av harddisker med høy tetthet og stor kapasitet et stort antall gigantiske motviljefilmmaterialer.CoF~Cu flerlags komposittfilm er en mye brukt struktur av gigantisk motviljefilm.TbFeCo-legeringsmålmaterialet som trengs for magnetisk skive er fortsatt i videreutvikling.Magnetskiven produsert med TbFeCo har egenskapene til stor lagringskapasitet, lang levetid og gjentatt berøringsfri slettbarhet.

　　Utvikling av målmateriale:

Ulike typer forstøvende tynnfilmmaterialer har blitt mye brukt i integrerte halvlederkretser (VLSI), optiske disker, plane skjermer og overflatebelegg av arbeidsstykket.Siden 1990-tallet har den synkrone utviklingen av sputtermålmateriale og sputterteknologi i stor grad møtt behovene til utviklingen av forskjellige nye elektroniske komponenter.