AlTa Sputtering Target Høy renhet tynnfilm PVD-belegg spesiallaget
Aluminium-tantal
Målene tilberedes ved å blande aluminium- og tantalpulver eller vakuumsmelting etterfulgt av komprimering til full tetthet.De således komprimerte materialene blir eventuelt sintret og formes deretter til ønsket målform.
Aluminium Tantal sputtering mål har høy renhet, homogen mikrostruktur og utmerket ledningsevne.Det er mye brukt i dannelsen av tynne filmer for flatskjermindustri.Aluminiumtantal kan også tilsettes for å produsere titanlegering med høy ytelse for å forbedre egnetheten ved høye temperaturer.
Urenhetsinnhold i Al-Ta-legering
| komposisjon | Innhold(%） | ||||
| Ta | Fe | Si | C | O | |
| AlTa60 | 55,0~65,0 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,05 |
| AlTa70 | 65,0~75,0 | ≤0,05 | ≤0,02 | ≤0,01 | ≤0,05 |
Rich Special Materials spesialiserer seg på produksjon av sputtering Target og kan produsere aluminium tantal sputtering materialer i henhold til kundenes spesifikasjoner.Våre produkter har utmerkede mekaniske egenskaper, homogen struktur, polert overflate uten segregering, porer eller sprekker.For mer informasjon, vennligst kontakt oss.
